Приведен аналитический обзор материалов, посвященных вопросам обеспечения единства измерений параметров и характеристик рельефа и шероховатости поверхности в микро- и нанометровом диапазонах. Выявлены существенные различия в топографической и профильной оценках вероятностных характеристик параметров рельефа поверхности. Проведено сравнение необходимого числа измерений для получения заданной точности и степени достоверности микротопографических и профильных параметров.

Проанализированы материалы и международные нормативно-методические документы, посвященные методам ареальной (зонной) характеризации топографии и текстуры шероховатой поверхности. Рассмотрены вопросы применения специальных фильтров, призванных устранять нежелательные компоненты измеряемой поверхности. Показан современный стандартизованный подход к разделению шероховатости и волнистости на первичной (основной) поверхности.

Рассмотрен процесс характеризации топологических признаков, включающий в себя пять стадий (шагов). Показано дерево изменений, отображающее соотношения между контурными линиями на поверхности. Приведена статистическая обработка признаков существенных топологических параметров, сводящаяся к построению гистограммы количественных значений (или числа) признаков.

Отмечены широкие возможности и полезность фрактальных методов при дискриминации профилей, измеренных на различных поверхностях и построении функциональных моделей взаимодействий с поверхностями. Проведен ареально-масштабный анализ при изучении адгезионных процессов: термического распыления адгезионного покрытия, бактериальной адгезии и науглероживания.

Рассмотрены вопросы методического обеспечения контроля качества поверхности, измерения ее шероховатости, формы и взаимного расположения поверхностей, требующиеся на различных стадиях производства изделий микроэлектроники. Проанализированы специфические особенности измерительных задач, решаемых методами и средствами сканирующей зондовой микроскопии и 3D-интерферометрии высокого разрешения. Также указаны структурные особенности характеризации атомарно-чистых и реальных поверхностей.