Специфика измерительных задач при анализе рельефа поверхностей в нанометровом диапазоне линейно-угловых размеров
Abstract
The problem of methodical provision of a surface quality control, measurement of its roughness, a form and mutual disposition of surfaces required at various stages of microelectronics products manufacturing are considered. The specific features of measuring problems solved by scanning probe microscopy and high resolution 3D interferometry methods and instruments are analysed. The structural peculiarities of characterization of atomically clean and real surfaces are also considered.
About the Authors
С. Золотаревский
Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы, Москва
Russian Federation
Russian Federation
В. Лысенко
Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы, Москва
Russian Federation
Russian Federation
Н. Табачникова
Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы, Москва
Russian Federation
Russian Federation
Ф. Булыгин
Федеральное агентство по техническому регулированию и метрологии (Росстандарт), Москва
Russian Federation
Russian Federation
А. Гусев
Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений, Москва
Russian Federation
Russian Federation
В. Лясковский
Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений, Москва
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Ковальчук М. В., Тодуа П. А. Нанотехнологии, метрология, стандартизация и сертификация в терминах и определениях. М.: Техносфера, 2009.
2. Метрологическое обеспечение нанотехнологий и продукции наноиндустрии. Учеб. пособие /Под ред. В. Н. Крутикова. М.: Изд-во Логос, 2011.
3. Тодуа П. А. Метрология и стандартизация в нанотехнологиях //Мир измерений. 2008. № 1. С. 4 – 10.
4. Бонч-Бруевич В. Л., Калашников С. Г. Физика полупроводников. М.: Наука, 1977.
5. ГОСТ 25142–82. Шероховатость поверхности. Термины и определения.
6. ГОСТ Р 8.631–2007. ГСИ. Микроскопы электронные растровые измерительные. Методы поверки.
7. Практическая растровая электронная микроскопия /Под ред. Дж. Гоулдстейна, X. Яковица. М.: Мир, 1978.
8. ГОСТ 2789–73. Шероховатость поверхности. Параметры и характеристики.
9. ГОСТ Р 8.700-2010. ГСИ. Методика измерений эффективной высоты шероховатости поверхности с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа.
10. ГОСТ 24642–81. Допуски формы и расположения поверхностей. Основные термины и определения.
11. Голубев C. C. Разработка и исследование методов и средств метрологического обслуживания сканирующих зондовых микроскопов: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук. М., 2008.
12. Данилова М. А. и др. Тест-объект с шириной линии менее 10 нм для растровой электронной микроскопии.
13. Новиков Ю. А., Раков А. В, Тодуа П. А. Точность измерения линейных размеров на растровых электронных микроскопах в микро- и нанотехнологиях //Измерительная техника. 2008. № 6. С. 15 – 18;
14. Novikov Yu. A., Rakov A. V., Todua P. A. Linearity measurement in an atomic-force microscope. 2008. V. 51. N 6. P. 594 – 598.
15. Кононогов С. A., Голубев С. С., Лысенко В. Г. Исследование измерительных и калибровочных возможностей средств измерений нанометрового диапазона //Законодательная и прикладная метрология. 2008. № 3.
Review
For citations:
, , , , , . Metrologiya. 2013;(2):41-52. (In Russ.)
Views:
38
