Влияние контаминации в растровых электронных микроскопах на профиль рельефных элементов в монокристаллическом кремнии
В. П. Гавриленко,
А. Ю. Кузин,
В. Б. Митюхляев,
А. В. Раков,
П. А. Тодуа,
М. Н. Филиппов,
В. А. Шаронов
- Р Р‡.МессенРТвЂВВВВВВВВжер
- РћРТвЂВВВВВВВВнокласснРСвЂВВВВВВВВРєРСвЂВВВВВВВВ
- LiveJournal
- Telegram
- ВКонтакте
- РЎРєРѕРїРСвЂВВВВВВВВровать ссылку
Полный текст:
Аннотация
Представлены результаты исследований влияния контаминации в РЭМ S-4800 на профиль рельефных элементов в монокристаллическом кремнии. Показано, что в результате облучения электронами с энергией 20 кэВ изменяется форма профиля рельефных элементов, рассмотрены зависимости их размерных параметров от дозы электронного облучения для разных режимов облучения.
Об авторах
В. П. Гавриленко
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
А. Ю. Кузин
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
В. Б. Митюхляев
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
А. В. Раков
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
П. А. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
М. Н. Филиппов
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
В. А. Шаронов
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва
Россия
Россия
Список литературы
1. Жданов Г. С. О скорости углеводородного загрязнения объектов в микрозондовых системах //Поверхность. 1983. № 1. С. 65 - 72.
2. Postek M. T. An approach to the reduction of hydrocarbon contamination in the scanning electron microscope //Scanning. 1996. V. 18. N 4. P. 269 - 274.
3. ГОСТ Р 8.636-2007. ГСИ. Микроскопы электронные растровые. Методика калибровки.
4. ГОСТ Р 8.631-2007. ГСИ. Микроскопы электронные растровые измерительные. Методика поверки.
5. Tortonese M., Guan Y., Prochazka J. NIST-traceable calibration of CD-SEM magnification using a 100 nm pitch standard // Proc. SPIE. 2003. V. 5038. P. 711 - 718.
6. Новиков Ю. А. и др. Линейная мера микрометрового и нанометрового диапазонов для растровой электронной и атомно-силовой микроскопии // Труды ИОФАН. 2006. Т. 62. С. 36 - 76.
7. Kanaya K., Okayama S. Penetration and energy-loss theory of electrons in solid targets// J. Phys. D. 1972. V. 5, N 1. P. 43 - 58.
8. Novikov Yu. A. е. а. Method for linear measurements in the nanometre range //Meas. Sci. Tech. 2008. V. 18. N 2. P. 367 - 374.
9. Silvis-Cividjan N., Hagen C.W., Kruit P. Spatial resolution limits in electron-beam-induced deposition //J. Appl. Phys. 2005. V. 98. P. 084905-1 - 084905-12.
Рецензия
Для цитирования:
Гавриленко В.П., Кузин А.Ю., Митюхляев В.Б., Раков А.В., Тодуа П.А., Филиппов М.Н., Шаронов В.А. Влияние контаминации в растровых электронных микроскопах на профиль рельефных элементов в монокристаллическом кремнии. Метрология. 2012;(8):15-23.
Просмотров:
44
ISSN 0132-4713 (Print)
ISSN 2712-9071 (Online)
ISSN 2712-9071 (Online)
